中文名 甲基磺酸锡
别 名 甲磺酸锡盐
英文名 stannous methanesulfonate
分子式 (CH3SO3)2Sn
分子量 308.93
CAS 53408-94-9
EINECS 401-640-7
比 重 1．53
熔 点 -27°C
性 状 无色透明液体
用 途 用于电镀及其它电子行业
在实际应用中控制甲基磺酸电镀锡镀层的织构以提高镀层性能,采用X-射线衍射分析方法研究了镀锡工艺中表面活性剂浓度,电流密度和镀层厚度对镀锡层织构的影响规律.XRD分析结果显示,表面活性剂聚乙二醇辛基苯基醚(OP)浓度高,镀层以(211)和(321)晶面择优;OP浓度低,镀层以(101)和(112)晶面择优.低电流密度有利于镀层以(211)和(312)晶面择优,高电流密度则有利于(101)和(112)晶面择优;镀层较薄时没有明显的晶面择优,(211)晶面的衍射峰强度随着镀层厚度的增加而加大,当镀层厚度超过10 μm,镀层以(211)和(321)晶面的衍射峰为主,且基本不随镀层厚度的增加而变化.
在实际应用中控制甲基磺酸电镀锡镀层的织构以提高镀层性能,采用X-射线衍射分析方法研究了镀锡工艺中表面活性剂浓度,电流密度和镀层厚度对镀锡层织构的影响规律.XRD分析结果显示,表面活性剂聚乙二醇辛基苯基醚(OP)浓度高,镀层以(211)和(321)晶面择优;OP浓度低,镀层以(101)和(112)晶面择优.低电流密度有利于镀层以(211)和(312)晶面择优,高电流密度则有利于(101)和(112)晶面择优;镀层较薄时没有明显的晶面择优,(211)晶面的衍射峰强度随着镀层厚度的增加而加大,当镀层厚度超过10 μm,镀层以(211)和(321)晶面的衍射峰为主,且基本不随镀层厚度的增加而变化.
